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中國(guó)擴(kuò)散爐行業(yè)市場(chǎng)運(yùn)行現(xiàn)狀及發(fā)展規(guī)劃研究報(bào)告【報(bào)告編號(hào)】: 34151【出版時(shí)間】: 2023年2月【出版機(jī)構(gòu)】: 中智博研研究網(wǎng)【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞 【報(bào)告價(jià)格】:【紙質(zhì)版】: 6500..06月13日 -
【全新修訂】：2024年5月【出版單位】：鴻晟信合研究院【內(nèi)容部分有刪減·詳細(xì)可參鴻晟信合研究院出版完整信息！】【報(bào)告價(jià)格】：[紙質(zhì)版]:6500元 [電子版]:6800元 [紙質(zhì)+電子]:7000元 (可以優(yōu)..06月13日
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全球及中國(guó)擴(kuò)散爐投資規(guī)模分析及發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告2021-2026年 ****************************************** ((報(bào)告編號(hào)))452264 ((出版日期)) 2021年6月 ((出版機(jī)構(gòu))) 產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)研究院 ((..06月13日
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320000.00元主要技術(shù)指標(biāo)： ★ 爐管數(shù)：1～4管 ★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸) ★ 恒溫區(qū)長(zhǎng)度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃) ★ 單點(diǎn)穩(wěn)定性： ±1...04月01日
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220000.00元用途： 立式擴(kuò)散爐用于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝過(guò)程中的高溫?cái)U(kuò)散，燒結(jié)，退火等工藝。該系統(tǒng)具有儀表控制系統(tǒng)，具有高密封性和抗腐蝕性的高純氣路系統(tǒng)。立式退火爐主要適合于8英寸工藝硅片的處理。 ..04月01日
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面議氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場(chǎng)的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步 ◆自動(dòng)..11月08日
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面議擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工的硅 片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工..11月08日
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面議擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..11月08日
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擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..11月04日
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擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..09月27日
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45000.00元特點(diǎn)： 1.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐采用高純石英管作為內(nèi)爐膛，具有良好的潔凈度 2.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐的耐火、保溫材料全部采用先進(jìn)的輕質(zhì)纖維制品，整機(jī)能耗低，升溫快 3.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐的12月16日
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55000.00元雙管擴(kuò)散爐的應(yīng)用領(lǐng)域： 主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料的擴(kuò)散、氧化工藝，也可以用于玻璃對(duì)金屬的封裝焊接，石英制品的熱處理、LED發(fā)光粉體材料的煅燒等工藝。 主要特點(diǎn)： 1.采用高純石英管12月16日
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全球與中國(guó)市場(chǎng)擴(kuò)散爐趨勢(shì)展望與投資機(jī)遇分析報(bào)告2017年版 ※※※鴻※※※晟※※※信※※※合※※※研※※※究※※※院※※※※ 【最新修訂】：2017年10月 【出版機(jī)構(gòu)】：鴻晟信合研10月23日
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中國(guó)擴(kuò)散爐市場(chǎng)動(dòng)態(tài)分析及發(fā)展戰(zhàn)略規(guī)劃研究報(bào)告2023 VS 2028 ★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★ 【報(bào)告編號(hào)】: 434281 【出版時(shí)間】: 2023年3月 【出版機(jī)構(gòu)】: 華研中商研究院 【交付方式..06月13日
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中國(guó)太陽(yáng)能擴(kuò)散爐行業(yè)發(fā)展規(guī)劃及投資前景趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告2021～2027年 ------------------------------------------ < 392018 < 2021年4月 < 華研中商研究院 < 紙..06月13日
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中國(guó)擴(kuò)散爐行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)展望及未來(lái)前景規(guī)劃建議報(bào)告2021-2027年 ------------------------------------------ <<報(bào)告編號(hào)>> 391012 <<出版日期>> 2021年4月 <&06月13日
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設(shè)備用途：擴(kuò)散爐用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝。 設(shè)備特點(diǎn)：?jiǎn)卧M合方式。根據(jù)工藝的不同，可以在主機(jī)的基礎(chǔ)上配氣源柜、超凈..04月01日
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220000.00元SIC氧化爐 擴(kuò)散爐 ★ 爐管數(shù)：1～4管 ★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸) ★ 恒溫區(qū)長(zhǎng)度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃) ★ 單點(diǎn)穩(wěn)定性： ±1.0℃/24h..04月01日
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面議擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..11月09日
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太陽(yáng)能擴(kuò)散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對(duì)125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。? 技術(shù)指標(biāo)： 可處理硅片尺寸：125mm×125mm..11月09日
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